當前位置：首頁>產品展示>真空標件
-
超高真空兼容系統微波等離子源
可選用氧氣、氮氣、氬氣等作為反應氣體，進行表面處理清潔、表面反應。
- 產品詳情
- 產品圖片
應用領域：
試樣表面碳污染處理，腔體內壁面清潔，材料表面濺射處理。
作用機理：
(1)物理清潔：為離子轟擊，清潔強度取決于離子動能。該設備可以使用多種實驗氣體，比如氧氣、氬氣、氮氣，其中氬氣的分子量大，電離后產生的顆粒比較重，在電場的作用下氬離子的動能明顯高于其他活性氣體，其活化效果更顯著，清潔作用更強。
(2)化學清潔：氧氣充入后產生電離反應，帶有化學活性的氧離子可以對表面的污染物進行反應，達到清潔作用。
參數：
材質：不銹鋼
供電電壓： AC220V
功率： 整機功率不超過150W
工作氣壓： 5~50Pa
安裝接口規格： DN35CF刀口法蘭
系統漏率： 5X10-11Pa*M3/S
可烘烤溫度：120°C
微波等離子源通氣實拍
氧氣：
氬氣：
氮氣：