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脈沖激光沉積腔體系統

脈沖激光沉積腔體系統(PLD系統)是一個基于不銹鋼圓形腔 室的真空設備。該腔室多個法蘭口可安裝實驗配件,包括RHEED、 發射光譜、高溫測定、薄膜沉積晶振等,實現對薄膜生長速率的控 制。該設備主要包括真空系統、磁耦合轉靶機構,高溫加熱伸縮機 構。

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