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超高真空原位薄膜制備譜學系統

超高真空薄膜X射線譜學系統,可以在超高真空條件下開展薄膜相關的掠入射X射線譜學實驗。該系統配備有樣品中轉存放臺,樣品可以在不暴露大氣的情況下,利用真空手提箱或者真空進樣腔室傳遞到樣品中轉存放臺上。在測試室對薄膜樣品進行掠入射硬X射線吸收/衍射/散射信號的測量。該系統配置一個高精度6自由度并聯位移平臺,可帶動整個腔體相對X射線光束線的精密位置調整。

六自由度并聯平臺參數

運 動 維 度? :X、Y、Z、α、β、Ψ

X、Y? ?行程 :±8mm、±8mm
Z? ? ? ? ? ?行程 :±9mm
α、β行程 :±3°
Ψ? ? ? ? ?行程 :±5°
推進設備分辨率:1μm
X、Y運動精度:5μm
Z運動精度:3μm
X、Y重復運動精度:3μm
Z重復運動精度:2μm
α、β運動精度:0.069mrad
X、Y移動速度:1mm/s
Z移動速度:2mm/s
負載(水平):100Kg
斷電保持力:20Kg
質量:10.5Kg
尺寸(直徑*高度):390*310mm

特點

·?超高真空實驗環境

·?樣品變溫測試環境(300K~1000K)

·?XAFS實驗(TEY全電子產額模式和PFY熒光產額模式可同時進行)

·?GIXRD掠入射衍射實驗

·?超高真空條件下樣品傳遞

真空度

樣品切光曲線

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